应用场景
半导体清洗

半导体清洗

半导体制造与封装环节用高纯含氟清洗溶剂,低颗粒、低残留,兼容多种工艺材料。

物理和化学特性

单元

SFN-7100

3M Novec7100

分子量

g/mol

250

250

沸点

℃

61

61

凝固点

℃

-135

-135

密度@25°C

g/ml

1.52

1.51

粘度@25℃

mPa.s

0.57

0.57

表面张力@25℃

mN/m

13.6

13.6

蒸发潜热

KJ/KG

126

126

蒸发率

(醚=100)

49

49

比热@25℃

KJ/kg.K

1.183

1.172

体积电阻率@25℃

Ω.m

10 8

10 8

绝缘破坏电

KV

二十八

二十八

KB值

 

>25

>25

闪点

℃

无

无

ODP

 

0

0

GWP


 

287

320